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  • 真空鍍膜機(jī)使用步驟

    電控柜操作1.開水泵、氣源。2.開總電源。3.開維持泵、真空計電源,真空計檔位置V1位置,等待其值小于10后,再進(jìn)入下一步操作。約需5分鐘。4.開機(jī)械泵、預(yù)抽,開渦輪分子泵電源、并啟動,真空計開關(guān)換到V2位置,抽到小于2為止,約需2

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  • 真空鍍膜機(jī)適用范圍

    1.建筑五金:衛(wèi)浴五金(如水龍頭).門鎖.門拉手.衛(wèi)浴、五金合葉、家具等。2.制表業(yè):可用于表殼.表帶的鍍膜、水晶制品。3.其它小五金:皮革五金.不銹鋼餐具.眼鏡框、刀具、模具等.4.大型工件:汽車輪轂、不銹鋼板.招牌.雕塑等。5、不銹鋼管

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  • 真空鍍膜機(jī)化學(xué)成分

    薄膜均勻性概念1.厚度上的均勻性,也可以理解為粗糙度,在光學(xué)薄膜的尺度上看(也就是1/10波長作為單位,約為100A),真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好,可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內(nèi),也就是說對于薄膜的光學(xué)特性來說,真空鍍膜沒

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  • 真空鍍膜機(jī)操作程序

    真空鍍膜機(jī)操作程序具體操作時請參照該設(shè)備說明書和設(shè)備上儀表盤指針顯示及各旋鈕下的標(biāo)注說明。①檢查真空鍍膜機(jī)各操作控制開關(guān)是否在"關(guān)"位置。②打開總電源開關(guān),設(shè)備送電。③低壓閥拉出。開充氣閥,聽不到氣流聲后,啟動升鐘

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  • 光學(xué)鍍膜設(shè)備幾種常見的外觀件鍍膜

    光學(xué)鍍膜設(shè)備幾種常見的外觀件鍍膜當(dāng)今生活中,已經(jīng)有越來越多的外觀部件在使用真空鍍膜技術(shù)優(yōu)化產(chǎn)品性能。這種通過真空鍍膜技術(shù)制備的薄膜按用途分類:增透膜、減反膜、截止膜、顏色膜、防水膜、金屬膜、高反膜等。本文將重點分析一下幾種常見的薄膜。1.何

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  • PVD真空鍍膜設(shè)備工藝介紹

    PVD真空鍍膜設(shè)備鍍膜技術(shù)是在真空腔體中將鈦、金、銀、石墨、水晶等金屬或非金屬、化合物、氣體等材料利用濺射、蒸發(fā)或離子鍍等技術(shù),在基材上沉積一層薄薄膜層表面處理過程。與傳統(tǒng)化學(xué)鍍膜方法相比,pvd鍍膜機(jī)有很多優(yōu)點:

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  • 磁控濺射鍍膜機(jī)為什么會出現(xiàn)靶中毒現(xiàn)象

    眾所周知磁控濺射鍍膜機(jī)用的是磁控濺射靶材,那么磁控濺射鍍膜機(jī)靶材在鍍膜濺射的時候會出生靶中毒現(xiàn)象,出現(xiàn)靶中毒現(xiàn)狀,是大家都非常頭疼的事情,既浪費(fèi)了靶材,同時也耽誤了生產(chǎn)時間,是非常讓人頭疼的事情。一般情況

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  • 鍍膜設(shè)備維修水噴射泵的結(jié)構(gòu)形式

    A按噴射方式分類:1)連續(xù)噴射。工作液射流是連續(xù)的。目前大多數(shù)水噴射泵采用這種方式。2)旋流噴射。工作液射流是旋轉(zhuǎn)的,這樣可以增加液氣的接觸面積,并使射流較快的破碎分散成液滴,從而提高泵的效率。缺點是旋流發(fā)生器要消耗一部分能量。3)脈沖噴射

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  • 電鍍設(shè)備常用的工藝槽

    電鍍設(shè)備中都有一些大大小小的槽子,初次接觸的人大都會問,這些都是什么槽,有什么用?為此,我們幫您整理出了常見的幾種工藝槽子,希望對您能有所幫助。一、熱脫槽(除油槽)1、主要成分:脫脂劑2、作用:去除基材表面油脂及其他臟污。二、粗化槽1、主要

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  • 濺射鍍膜機(jī)的鍍膜工藝主要受影響的幾個參數(shù)介紹

    濺射鍍膜機(jī)真空鍍膜設(shè)備鍍膜工藝主要受哪幾個參數(shù)影響呢?磁控鍍膜機(jī)里面的工藝參數(shù)有很多很多,每個參數(shù)對磁控濺射系統(tǒng)來說都是非常重要的因素,因為一個參數(shù)未達(dá)標(biāo),都沒辦法完成所需要達(dá)到的要求,下面給大家介紹真空鍍膜設(shè)備幾個

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  • 真空泵維修渦旋式水環(huán)真空泵現(xiàn)狀和發(fā)展

    渦旋水環(huán)真空泵的研究始于20世紀(jì)80年代末期。1988年,日本東京大學(xué)的MorishitaE研制了抽速為200L/min的立式自轉(zhuǎn)型油潤滑渦旋水環(huán)真空泵,與公轉(zhuǎn)型渦旋真空泵相比,該泵的徑向間隙具有易于密封和控制的優(yōu)點。而渦旋泵與旋片泵相比,

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  • 真空泵維修渦旋式水環(huán)真空泵現(xiàn)狀和發(fā)展

    渦旋水環(huán)真空泵的研究始于20世紀(jì)80年代末期。1988年,日本東京大學(xué)的MorishitaE研制了抽速為200L/min的立式自轉(zhuǎn)型油潤滑渦旋水環(huán)真空泵,與公轉(zhuǎn)型渦旋真空泵相比,該泵的徑向間隙具有易于密封和控制的優(yōu)點。而渦旋泵與旋片泵相比,

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