真空鍍膜設(shè)備的鍍膜方式及常會遇到的問題
發(fā)布日期：2022-11-30
鍍膜設(shè)備就是在高真空狀態(tài)下通過高溫將金屬鋁熔化蒸發(fā)，使鋁的蒸汽沉淀堆積到塑料薄膜表面上，從而使塑料薄膜表面具有金屬光澤的設(shè)備。真空鍍膜技術(shù)作為一種產(chǎn)生特定膜層的技術(shù)，在現(xiàn)實(shí)生產(chǎn)生活中有著廣泛的應(yīng)用。
鍍膜設(shè)備的鍍膜方式：離子鍍，蒸發(fā)鍍，濺射鍍
(1)鍍膜設(shè)備的特點(diǎn)：成膜速度快0.1-50um/min，設(shè)備比較簡單，操作容易;制得薄膜純度高;薄膜生長機(jī)理較簡單。
(2)缺點(diǎn)：薄膜附著力較小，結(jié)晶不夠完善，工藝重復(fù)性不夠好。
鍍膜設(shè)備鍍出的產(chǎn)品掉膜是怎么回事?
一。產(chǎn)品表面潔凈度不夠，離子源清洗氬氣放大時間長點(diǎn)。
二。清洗是否有加了清洗劑，或者更換了清洗劑，建議用純水先試一下。
三。工藝參數(shù)是否有變動在膜厚和電流上可以做點(diǎn)調(diào)整。
還有就是靶材的問題等。
