鍍前準(zhǔn)備→抽真空→離子轟擊→烘烤→預(yù)熔→蒸發(fā)→取件→膜層表面處理→成品

　　1、鍍前準(zhǔn)備

　　工序包括鍍件清洗、蒸發(fā)源制作與清洗，真空室鍍件夾具清洗、安裝蒸發(fā)源、裝鍍件等。

　　①鍍件的清潔和處理

　　膜與鍍件表面的結(jié)合力是產(chǎn)品質(zhì)量的重要指標(biāo)。它由許多因素決定，鍍膜前的表面處理是最基本的因素之一。如果鍍件表面有油脂、吸附水和灰塵，會降低膜的結(jié)合力，影響表面粗糙度。

　　化學(xué)除油：各種不同的金屬與非金屬鍍件應(yīng)采用相應(yīng)的脫脂除油工藝，具體方法可在本網(wǎng)技術(shù)欄目搜索除油查看相關(guān)文章。

　　靜電除塵：鍍件在成型的過程中容易帶靜電，而使膜層產(chǎn)生針孔或降低膜的結(jié)合力，因此在涂底漆前須除去靜電。

　　涂底漆：一般蒸發(fā)底的膜層厚度0.05~0.1um，而普通鍍件的表面不平度為0.5um，膜層的厚度遠(yuǎn)不足以填補(bǔ)凹坑。為降低表面粗糙度，一般在鍍件表面涂7~10um的特制底漆，以消除凹坑，取得整平表面的效果。

　　②蒸發(fā)源的制作

　　按照產(chǎn)品的使用要求和鍍件的材質(zhì)，選擇適當(dāng)?shù)恼舭l(fā)材料是獲得優(yōu)質(zhì)膜層的基本條件。

　　選用金屬膜材料的基本原則是：應(yīng)有良好的熱穩(wěn)定性和化學(xué)穩(wěn)定性，機(jī)械強(qiáng)度高，內(nèi)應(yīng)力低，并有一定的韌性，與底漆結(jié)合性良好，反光率高，真空中放氣量小;材料來源廣，價格低廉，具有相應(yīng)的蒸發(fā)源。

　　不同的蒸發(fā)材料，需選用相應(yīng)的蒸發(fā)源和蒸發(fā)鍍方式。

　?、壅婵帐液湾兗A具的清洗

　　有內(nèi)罩的真空室污染，可取下罩清洗或更新，若無內(nèi)罩可用碳酸鈣擦拭，再水擦，最后用無水乙醇擦凈。

　　常用的鋁夾具可先用20%NaOH液浸泡至表面呈褐色，再用流水沖洗凈，用HNO3浸至褐色消失，再水洗烘干。

　?、馨惭b蒸發(fā)源

　　注意戴脫脂手套，工具要事前脫脂。特別注意蒸發(fā)源與電極良好接觸。

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　　應(yīng)平穩(wěn)牢固放置在鍍件地和鍍件夾上，以防蒸發(fā)時因夾具旋轉(zhuǎn)而將鍍件拋離夾具，需戴脫脂手套，不得講話，保持鍍件夾具清潔。

　　2、抽真空步驟

　　開啟冷卻水閥，調(diào)節(jié)到所需水壓，打開總電源，關(guān)閉通往真空室的大氣閥，關(guān)閉配管閥，啟動機(jī)械泵電源，打開預(yù)真空閥。此時，機(jī)械泵吸入真空室，然后進(jìn)行離子轟擊，打開擴(kuò)散泵的加熱電源，關(guān)閉預(yù)真空閥，當(dāng)擴(kuò)散泵滿足工作要求時，關(guān)閉真空閥，打開配管閥，打開高真空閥，此時，擴(kuò)散泵、機(jī)械泵吸入真空室，真空度達(dá)到一定值后進(jìn)行烘烤、預(yù)熔、蒸發(fā)。

　　3、離子轟擊

　　輝光放電時，離子轟擊電子獲得很高的速度，在鍍件周圍因電子較大的遷移率而迅速帶有負(fù)電荷，在負(fù)電荷吸引力的作用下，正離子轟擊鍍件表面，鍍件表面有能量交換，在鍍件吸附層和活性氣體之間發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，達(dá)到清潔表面的效果。

　　離子轟擊的條件是剩余氣體壓力穩(wěn)定在0.13~13Pa，電壓為1.5~10kV，時間為5~60min。

　　4、烘烤

　　可加速鍍件或夾具吸附的氣體迅速逸出，有利于提高真空度和膜層結(jié)合力，烘烤時需注意，對于非金屬烘烤溫度要低于鍍件的熱變形溫度20~30℃，對金屬烘烤一般不超過200℃。

　　5、預(yù)熔

　　可除去蒸發(fā)材料中低熔點雜質(zhì)和蒸發(fā)源及蒸發(fā)材料中吸附的氣體，有利于蒸發(fā)的順利進(jìn)行，預(yù)熔的真空度一般為6.6×10-3Pa，時間以完全熔化為止，對吸濕性大的物質(zhì)應(yīng)反復(fù)預(yù)熔，總的要求是在蒸發(fā)材料升溫到蒸發(fā)溫度時，真空度不再下降。

　　6、蒸發(fā)

　　蒸發(fā)技術(shù)對涂層質(zhì)量有很大影響，對一般金屬、特殊金屬和化合物有不同的要求。比如有些金屬需要快速蒸發(fā)，而其他金屬不適合。加熱方法和蒸發(fā)源的形狀應(yīng)根據(jù)蒸發(fā)材料的不同而定。