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真空鍍膜機(jī)使用步驟
電控柜操作1.開(kāi)水泵、氣源。2.開(kāi)總電源。3.開(kāi)維持泵、真空計(jì)電源，真空計(jì)檔位置V1位置，等待其值小于10后，再進(jìn)入下一步操作。約需5分鐘。4.開(kāi)機(jī)械泵、預(yù)抽，開(kāi)渦輪分子泵電源、并啟動(dòng)，真空計(jì)開(kāi)關(guān)換到V2位置，抽到小于2為止，約需2
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真空鍍膜機(jī)適用范圍
1．建筑五金：衛(wèi)浴五金（如水龍頭）．門(mén)鎖．門(mén)拉手．衛(wèi)浴、五金合葉、家具等。2．制表業(yè)：可用于表殼．表帶的鍍膜、水晶制品。3．其它小五金：皮革五金．不銹鋼餐具．眼鏡框、刀具、模具等．4．大型工件：汽車(chē)輪轂、不銹鋼板．招牌．雕塑等。5、不銹鋼管
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真空鍍膜機(jī)化學(xué)成分
薄膜均勻性概念1.厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學(xué)薄膜的尺度上看（也就是1/10波長(zhǎng)作為單位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好，可以輕松將粗糙度控制在可見(jiàn)光波長(zhǎng)的1/10范圍內(nèi)，也就是說(shuō)對(duì)于薄膜的光學(xué)特性來(lái)說(shuō)，真空鍍膜沒(méi)
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真空鍍膜機(jī)操作程序
真空鍍膜機(jī)操作程序具體操作時(shí)請(qǐng)參照該設(shè)備說(shuō)明書(shū)和設(shè)備上儀表盤(pán)指針顯示及各旋鈕下的標(biāo)注說(shuō)明。①檢查真空鍍膜機(jī)各操作控制開(kāi)關(guān)是否在"關(guān)"位置。②打開(kāi)總電源開(kāi)關(guān)，設(shè)備送電。③低壓閥拉出。開(kāi)充氣閥，聽(tīng)不到氣流聲后，啟動(dòng)升鐘
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光學(xué)鍍膜設(shè)備幾種常見(jiàn)的外觀件鍍膜
光學(xué)鍍膜設(shè)備幾種常見(jiàn)的外觀件鍍膜當(dāng)今生活中，已經(jīng)有越來(lái)越多的外觀部件在使用真空鍍膜技術(shù)優(yōu)化產(chǎn)品性能。這種通過(guò)真空鍍膜技術(shù)制備的薄膜按用途分類：增透膜、減反膜、截止膜、顏色膜、防水膜、金屬膜、高反膜等。本文將重點(diǎn)分析一下幾種常見(jiàn)的薄膜。1.何
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PVD真空鍍膜設(shè)備工藝介紹
PVD真空鍍膜設(shè)備鍍膜技術(shù)是在真空腔體中將鈦、金、銀、石墨、水晶等金屬或非金屬、化合物、氣體等材料利用濺射、蒸發(fā)或離子鍍等技術(shù)，在基材上沉積一層薄薄膜層表面處理過(guò)程。與傳統(tǒng)化學(xué)鍍膜方法相比，pvd鍍膜機(jī)有很多優(yōu)點(diǎn)：
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磁控濺射鍍膜機(jī)為什么會(huì)出現(xiàn)靶中毒現(xiàn)象
眾所周知磁控濺射鍍膜機(jī)用的是磁控濺射靶材，那么磁控濺射鍍膜機(jī)靶材在鍍膜濺射的時(shí)候會(huì)出生靶中毒現(xiàn)象，出現(xiàn)靶中毒現(xiàn)狀，是大家都非常頭疼的事情，既浪費(fèi)了靶材，同時(shí)也耽誤了生產(chǎn)時(shí)間，是非常讓人頭疼的事情。一般情況
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鍍膜設(shè)備維修水噴射泵的結(jié)構(gòu)形式
A按噴射方式分類：1）連續(xù)噴射。工作液射流是連續(xù)的。目前大多數(shù)水噴射泵采用這種方式。2）旋流噴射。工作液射流是旋轉(zhuǎn)的，這樣可以增加液氣的接觸面積，并使射流較快的破碎分散成液滴，從而提高泵的效率。缺點(diǎn)是旋流發(fā)生器要消耗一部分能量。3）脈沖噴射
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電鍍?cè)O(shè)備常用的工藝槽
電鍍?cè)O(shè)備中都有一些大大小小的槽子，初次接觸的人大都會(huì)問(wèn)，這些都是什么槽，有什么用?為此，我們幫您整理出了常見(jiàn)的幾種工藝槽子，希望對(duì)您能有所幫助。一、熱脫槽（除油槽）1、主要成分：脫脂劑2、作用：去除基材表面油脂及其他臟污。二、粗化槽1、主要
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濺射鍍膜機(jī)的鍍膜工藝主要受影響的幾個(gè)參數(shù)介紹
濺射鍍膜機(jī)真空鍍膜設(shè)備鍍膜工藝主要受哪幾個(gè)參數(shù)影響呢？磁控鍍膜機(jī)里面的工藝參數(shù)有很多很多，每個(gè)參數(shù)對(duì)磁控濺射系統(tǒng)來(lái)說(shuō)都是非常重要的因素，因?yàn)橐粋€(gè)參數(shù)未達(dá)標(biāo)，都沒(méi)辦法完成所需要達(dá)到的要求，下面給大家介紹真空鍍膜設(shè)備幾個(gè)
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真空泵維修渦旋式水環(huán)真空泵現(xiàn)狀和發(fā)展
渦旋水環(huán)真空泵的研究始于20世紀(jì)80年代末期。1988年，日本東京大學(xué)的MorishitaE研制了抽速為200L/min的立式自轉(zhuǎn)型油潤(rùn)滑渦旋水環(huán)真空泵，與公轉(zhuǎn)型渦旋真空泵相比，該泵的徑向間隙具有易于密封和控制的優(yōu)點(diǎn)。而渦旋泵與旋片泵相比，
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真空泵維修渦旋式水環(huán)真空泵現(xiàn)狀和發(fā)展
渦旋水環(huán)真空泵的研究始于20世紀(jì)80年代末期。1988年，日本東京大學(xué)的MorishitaE研制了抽速為200L/min的立式自轉(zhuǎn)型油潤(rùn)滑渦旋水環(huán)真空泵，與公轉(zhuǎn)型渦旋真空泵相比，該泵的徑向間隙具有易于密封和控制的優(yōu)點(diǎn)。而渦旋泵與旋片泵相比，
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